動態二次離子質譜儀(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry,簡稱D-SIMS)是一種用於固體材料成分分析的高靈敏度表麵分析技術。
ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計,是大 多數半導體開發和支持實驗室的常用工具。通過優化的二次離子收集光學係統 和超高真空設計,提供了薄膜結構檢測中的摻雜組分和常見雜質所需的靈敏度。
工作原理:
動態二次離子質譜儀通過使用聚焦的高能量一次離子束(如O₂⁺、Cs⁺、Ar⁺等)轟擊樣品表麵,使樣品表麵的原子或分子被濺射出來。在這個過程中,部分濺射出的粒子會帶電,形成二次離子。這些二次離子被收集並傳輸到質譜儀中進行分析,通過質譜分析可以確定樣品的化學組成和元素分布。
