技術文章
TECHNICAL ARTICLES掠入射衍射介紹
掠入射衍射(GID, Grazing incidence diffraction)是研究多晶薄膜的一種常用方法。薄膜樣品在Bragg-Brentano對稱衍射中通常表現出非常微弱的衍射信號,原因在於(yu) X射線可穿透薄膜照射到底層襯底,由於(yu) 襯底其較大的散射體(ti) 積,導致其衍射信號在終端信號中占據主導地位。
然而,如果不是BB幾何的發散光路,而是一束細的平行光束照向樣品表麵,這樣它隻穿透薄膜而不穿透下方的襯底材料,那麽(me) 來自薄膜的衍射信號則會(hui) 成為(wei) 主導。通過優(you) 化平行光束的入射角度,可以將薄膜層的散射信號與(yu) 襯底的散射信號解離開來(圖1)。
▲圖1. 在玻璃基板上沉積的20 nm氧化銦錫(ITO)層的DIFFRAC.EVA視圖。對稱的θ/θ掃描(橙色)可以看到明顯的
由玻璃基板主導的信號,而ITO信號在0.3°固定入射角度下的GID掃描(藍色)中得到了很好的突出顯示。
D6 Phaser測試案例
D6 PHASER使用雙狹縫準直裝置來產(chan) 生平行X光束。X射線光管的線聚焦與(yu) 較小的初級發散狹縫相結合,足以準直形成具有合適平行度的X光束。另外,也可以使用小入射可變狹縫與(yu) 可插入的第二狹縫的組合。通過使用通用樣品台(圖2),平行光束相對於(yu) 樣品表麵的入射角可以在做探測器掃描時保持恒定。在衍射端D6 PHASER使用赤道索拉狹縫來限製探測器的角分辨率和光通量。所得的衍射數據可用於(yu) 物相鑒定、殘餘(yu) 應力分析及通過改變入射角進行基於(yu) 不同入射深度的物相分析。類似GID的非對稱衍射幾何,與(yu) 對稱幾何不同,在數據采集過程衍射晶麵沒有統一的取向。在較低的衍射角下,晶麵法線接近樣品表麵法線,而在高衍射角處,晶麵法線則接近麵內(nei) 方向。這可以用來分析由於(yu) 襯底施加在薄膜上的應變引起的晶格畸變。請注意,殘餘(yu) 應力的測定和準確度很大程度上依賴於(yu) 衍射儀(yi) 在較高角度下獲取高質量衍射數據的能力。
▲圖2. D6 PHASER用於(yu) GID測試,配置包含可變發散狹縫模塊,通用樣品台和安裝在LYNXEYE XE-T探測器前的次級水平Soller準直器。
GID薄膜分析
圖3展示了對20 nm厚的鎢薄膜進行GID掃描獲得譜圖的分析,數據測試時間為(wei) 40分鍾,較高測試角度達到140°。除此之外,薄膜的厚度也可以用D6 PHASER精確測量,該結果已在之前的文章中進行報道。在厚度小於(yu) 幾十納米的薄膜半導體(ti) 器件中,鎢被認為(wei) 是金屬材料銅的替代品。依賴於(yu) 生長條件,這種空間受限可能導致薄膜存在明顯的殘餘(yu) 應力,從(cong) 而引發一些不良影響(如薄膜分層)。因此,對薄膜殘餘(yu) 應力的評估至關(guan) 重要,在某些情況下,應力可達到GPa的級別。
鎢薄膜殘餘(yu) 應力的評估是基於(yu) 整個(ge) 粉末衍射譜圖的分解,它使用了立方晶係的Im-3m空間群和額外的角度偏移,這些角度位移與(yu) (i)樣品表麵X射線的折射效應和(ii)晶格應變有關(guan) ,引發了基於(yu) 角度的峰位偏移,可由彈性理論(多重sin2ψ(hkl)方法)來進行測定分析。結構的精修使用DIFFRAC.TOPAS軟件進行,顯示鎢薄層存在明顯的殘餘(yu) 應力,約為(wei) -2.4 GPa。
▲圖3. 使用DIFFRAC.TOPAS軟件對GID數據進行精修。從(cong) 殘差曲線可以看出,在精修模型中加入殘餘(yu) 應力修正可以明顯提高W相(上方曲線)的擬合質量。
結論
D6 PHASER衍射儀(yi) 和DIFFRAC.TOPAS軟件是一個(ge) 很好的組合,來對薄膜材料進行掠入射分析,可以給出超越傳(chuan) 統定性相分析以外的定量結構信息。
-轉載於(yu) 《布魯克X射線部門》公眾(zhong) 號
掃一掃,關(guan) 注公眾(zhong) 號
服務電話:
021-34685181