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TECHNICAL ARTICLESXRR是什麽(me) ?
XRR是一種方便、快速的分析單層或多層薄膜和表麵的方法,是一種納米尺度上的分析方法,同時可實現無損分析。例如,通過原子層沉積(ALD)技術沉積的薄膜可以用XRR表征薄膜的厚度、密度和界麵的粗糙度,同樣也適用於(yu) 其他方法製備的薄膜,如通過分子層沉積(MLD)沉積的有機/無機超晶格。與(yu) 光學橢偏法不同,該方法不需要預先了解薄膜的光學性質,也不需要假設薄膜的光學性質。然而,XRR不能提供有關(guan) 材料晶體(ti) 結構的信息,並且多層膜隻能在有限的深度內(nei) 表征。
XRR簡單原理介紹
XRR分析可以在晶體(ti) 和非晶材料上進行,當X射線以掠入射角度照到材料平麵上時,在某個(ge) 特定角度下將會(hui) 發生全反射現象,這個(ge) 角非常小,稱為(wei) 臨(lin) 界角(θc)。角度的變化取決(jue) 於(yu) 材料的密度。入射X射線的角度相對於(yu) 臨(lin) 界角越高,X射線透射到材料中的深度就越深。對於(yu) 表麵理想平坦的材料,反射率強度在超過臨(lin) 界角的角度上以θ-4的比例陡降。在XRR分析中,X射線源提供高亮度的X射線束,以非常低的入射角從(cong) 平麵反射。XRR係統測量在鏡麵方向反射的x射線的強度。如果層與(yu) 層之間的界麵或者層與(yu) 襯底之間的界麵,不是很銳利和光滑,那麽(me) 反射強度將偏離菲涅耳反射率定律(the law of Fresnel reflectivity)所預測的強度。然後可以分析X射線反射測量的偏差,以獲得與(yu) 表麵法向的界麵密度剖麵,同時通過專(zhuan) 業(ye) 軟件建模、擬合分析來確定膜層厚度,密度和界麵粗糙度。
▲Figure 1: Schematic view of X-ray reflection for cases when the incident angle is lower and higher than the critical angle, θc.
▲Figure 2: Simulated XRR profile for a single layer system. The critical angle (determined by film density) and Kiessig fringes (determined by layer thickness) are observed
XRR用途高精度的薄膜厚度和密度量測
量測薄膜或界麵粗糙度
XRR樣品要求
表麵光滑、均勻的樣品(roughness < 3~5nm)沿著X射線方向,樣品長度至少3-5mm
XRR應用分享(一)
本應用示例中,我們(men) 在布魯克新品桌麵衍射儀(yi) D6 PHASER上對鎢薄膜進行反射率應用分析。新款D6 PHASER桌麵衍射儀(yi) ,通過特殊短距離前光路設計產(chan) 生平行光,配合可調整樣品表麵法線方向及定位的通用樣品台,實現針對樣品的XRR的測量。應用中可針對樣品類型選擇專(zhuan) 為(wei) 薄膜樣品開發的彈簧台或者真空吸台。任何具備高計數模式的LYNXEYE係列探測器均可滿足測試需求。此外,通過調節光束限製係統,可實現提高儀(yi) 器分辨率,有效降低測試背景。
▲Figure 3: FFT analysis in DIFFRAC.XRR of the W thin film
本例中XRR測試是在不使用銅吸收片條件下,從(cong) 極低角度即可開始測試(如0.2°或者0.1°)。當然在測量的動態範圍很大的條件下需要使用吸收器。與(yu) 傳(chuan) 統的XRD儀(yi) 器相比,D6 PHASER中的信號得到了明顯增強,測量周期更短,條紋持續時間長,測量時間約為(wei) 幾分鍾。測量數據被導入到布魯克開發的分析軟件DIFFRAC.XRR中,軟件可實現歸一化處理,將數據合並為(wei) 單數據集。同時,使用FFT插件可以快速估計薄膜厚度。該分析轉換了產(chan) 生與(yu) 條紋圖案周期性相對應的厚度峰的數據的尺度(圖3)。針對本示例中的測試樣品,可以觀察到21.2 nm處的單峰。
▲Figure 4: Measurement geometry for X-ray reflectometry in the D6 PHASER
為(wei) 了更深入地挖掘測量數據包含的信息,執行數據擬合操作(圖5)。使用材料數據庫快速構建樣本,然後對數據執行回歸處理。在這裏可以發現除了襯底和薄膜外,Si和W之間以及W表麵還存在界麵層。
D6 PHASER及DIFFRAC.XRR是進行薄膜反射率分析的一對利器。
DIFFRAC.XRR應用動力學散射理論進行了精確的模擬。采用小的二乘法對樣品模型參數(厚度、粗糙度、密度)進行優(you) 化,使XRR曲線與(yu) 實測數據擬合。實驗貢獻,如儀(yi) 器分辨率、背景被整合,以準確地描述測量。快速穩定的擬合算法確保了收斂性,並提供了可靠的結果。
▲Figure 5: Fitting analysis of the W film data in DIFFRAC.XRR. The sample was constructed using the materials database then regression was performed. Additional layers were added to fit the density profile of the film
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